
金相显微镜
用途:MLCC 切片失效分析、微观结构观测,属于破坏性分析设备。
将 MLCC 样品镶嵌、研磨、抛光后,观察陶瓷介质层、内部电极、端电极截面。
可检查介质层厚度均匀性、电极错位、内部裂纹、空洞、分层、瓷体崩缺、端电极浸润不良等失效形貌。
常用于失效样品解剖、工艺验证、对比分析,是 MLCC 失效分析最核心的观察设备。
典型输出:金相切片照片,判断裂纹起源、分层位置,定位失效根因。
QUALITY LAB & TESTING CENTER
自建高标准专业元器件检测实验室,覆盖失效分析、电性能、高压安规、环境可靠性与寿命测试。
LABORATORY EQUIPMENT
专业检测设备,为品质控制提供可靠依据。

用途:MLCC 切片失效分析、微观结构观测,属于破坏性分析设备。
将 MLCC 样品镶嵌、研磨、抛光后,观察陶瓷介质层、内部电极、端电极截面。
可检查介质层厚度均匀性、电极错位、内部裂纹、空洞、分层、瓷体崩缺、端电极浸润不良等失效形貌。
常用于失效样品解剖、工艺验证、对比分析,是 MLCC 失效分析最核心的观察设备。
典型输出:金相切片照片,判断裂纹起源、分层位置,定位失效根因。

用途:MLCC 核心电性能基础测试,来料必测仪器。
测量:电容 C、损耗因子 DF (tanδ)、ESR 等效串联电阻、阻抗 Z。
测试条件:标准 1kHz/1MHz,0.5Vrms~1Vrms 交流小信号,部分机型支持叠加直流偏置电压,模拟实际工作偏压下容值衰减(ClassⅡ 材质 X7R/X5R 容量跌落特性)SAMSUNG EL...。
使用场景:来料抽检、环境试验前后对比、寿命试验前后参数复测;判断容值超差、损耗异常。

用途:MLCC 交直流耐压测试,考核陶瓷介质抗击穿能力。
参数能力:AC 0 5kV,DC 0 6kV,可设置缓升电压、测试保持时间、漏电流判定阈值,带电弧侦测,识别介质微电弧击穿HIOKI...。
MLCC 测试项目: 1)直流耐压:施加高于额定电压,检测介质是否击穿; 2)交流耐压安规测试; 3)击穿电压 BDV 测试,找到 MLCC 介质击穿临界点。
可筛选介质存在隐性缺陷、针孔、微裂纹的样品,测试后再复测 LCR、绝缘电阻观察是否隐性损伤。

用途:测量 MLCC 介质绝缘电阻 IR,评估漏电流大小。
在 MLCC 两端施加规定 DC 电压,测量介质绝缘阻抗;好的 MLCC 绝缘电阻数值很高(GΩ~TΩ 级别),绝缘下降代表介质劣化、受潮、内部微裂纹。
应用场景:来料检验;恒温恒湿、寿命试验前后检测;高温高湿试验后最容易出现 IR 跌落失效。
现象:样品失效时绝缘电阻急剧变小,漏电流变大。

用途:模拟温湿度环境应力,做湿热可靠性试验。
精准可控温度 + 湿度,常用测试条件:85℃/85% RH(高温高湿),也可做低温湿热。
MLCC 典型试验:高温高湿负荷(可带电)、湿热储存试验。
考核:潮湿环境下陶瓷介质、端电极抗劣化能力,暴露吸湿导致绝缘电阻下降、电化学腐蚀失效。试验完成后取出,复测 LCR、绝缘电阻对比参数变化。

用途:温度冲击(温度循环)测试,考核热胀冷缩机械应力耐受能力。
样品快速在高温区、低温区来回切换,短时间完成巨大温差变化(例如 55℃ ↔125℃)。
模拟整机环境急剧冷热变化,重点激发 MLCC 热应力裂纹:瓷体裂纹、内电极断裂、端电极开裂。
测试完成后,外观检查 + LCR + 绝缘电阻复测,排查出现隐性裂纹的器件。

用途:MLCC 耐久性(高温负载寿命)测试,评估长期工作可靠性,加速老化试验。
在高温环境(常见 125℃),同时给 MLCC 持续施加直流额定电压(甚至过压加速)长时间运行(几百~1000h 以上)。
设备配套:高温腔体、多路直流加压单元、通道漏电流实时监控。
监控指标:实时监测每颗样品漏电流变化;试验前后对比电容、损耗、绝缘电阻。
目的:模拟元器件长期服役工况,暴露介质老化、早期击穿失效;计算器件失效率、FIT 寿命预估,是高可靠 MLCC 最重要验证项目。